○產(chǎn)品介紹

TN-MSP500S-DCRF-RE往復(fù)樣品臺型雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的實(shí)驗(yàn)室專用鍍膜儀，磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn)，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。本型號樣品臺采用往復(fù)式設(shè)計(jì)，左側(cè)配有磁力耦合推桿，可將樣品臺左右推動(dòng)。磁控靶配有水冷夾層，水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長時(shí)間穩(wěn)定工作。整機(jī)均采用觸控屏控制，內(nèi)置一鍵式鍍膜程序，操作簡單易上手，是一款實(shí)驗(yàn)室制備薄膜的理想設(shè)備.

○適用范圍

設(shè)備配有一臺直流電源，一臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。

○產(chǎn)品特點(diǎn)

1、雙靶共同濺射或者反應(yīng)濺射

2、磁控靶帶水冷夾層，水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量。  

3、樣品臺往復(fù)式設(shè)計(jì)，左側(cè)配有磁力耦合推桿，樣品臺左右推動(dòng)

4、直流加射頻電源滿足多種材料濺射

5、觸控屏控制，內(nèi)置一鍵式鍍膜程序

○技術(shù)參數(shù)

供電電壓	AC220V，50Hz	機(jī)功率	6KW
極限真空度	5x10-4Pa	樣品臺尺寸	100mm x 100mm
樣品臺往復(fù)行程	200mm	磁控濺射頭	2個(gè)2”磁控濺射頭
磁控濺射頭冷卻方式	10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī)	腔體尺寸	φ500mm X 490mm H
腔體材料	不銹鋼	觀察窗口	φ100mm
腔體開啟方式	前開門式	氣體流量控制器	1路200sccm Ar
真空泵	配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S	膜厚儀	石英振動(dòng)薄膜測厚儀一臺，分辨率0.10 ?
濺射電源	直流電源1臺，500W，適用于制備金屬膜 射頻電源1臺，500W，適用于非金屬鍍膜	操作方式	一體機(jī)電腦操作
整機(jī)尺寸	1090mm X 900mm X 1250mm	整機(jī)重量	350kg

○免責(zé)聲明

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