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產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
多弧離子鍍膜儀是利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時將蒸發(fā)物或反應物沉積在基片上。本多弧離子鍍膜儀配有兩個多弧靶，和行星式樣品臺可有效的提高鍍膜效率。
詳情介紹：
多弧離子鍍膜儀 TN-MIOP500S-2TA本設備為多弧離子鍍膜設備。多弧離子鍍是利用氣體放電或被蒸發(fā)物質(zhì)部分離化，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)粒子轟擊作用的同時，將蒸發(fā)物或反應物沉積在基片上。離子鍍把輝光放電現(xiàn)象、等離子體技術和真空蒸發(fā)三者有機結合起來，不僅能明顯地改進了膜質(zhì)量，而且還擴大了薄膜的應用范圍。其具有蒸鍍速率快，薄膜附著力強，繞射性好，膜材廣泛等優(yōu)點。十分適合鍍硬質(zhì)保護膜如TiN等。同時由于其通過控制氣氛可以改變膜層顏色，且膜層與基板結合牢固，故也可用于制作多種顏色的裝飾性膜
本設備配有兩個多弧靶，分置于腔體兩側。配合行星式樣品臺可有效的提高鍍膜效率，改善成效果;該鍍膜儀還采用一體化設計，腔體和電控部分左右分置，實現(xiàn)了水電分離，有力的保證了用戶的**。
| 名稱 |
多弧離子鍍膜儀 |
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型號 |
TN-MIOP500S-2TA |
| 特點 |
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| 技術參數(shù) |
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| 規(guī)格 |
電壓 AC380V,50Hz ；尺寸 1000mm X 800mm X 1500mm；功率 5kW 整機重量 350kg |
