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產(chǎn)品名稱：雙靶等離子濺射鍍膜儀（基礎(chǔ)版）
產(chǎn)品型號：TN-PSP180G-2TA
產(chǎn)品廠商：泰諾
產(chǎn)品文檔：

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簡單介紹：

雙靶等離子濺射鍍膜儀（基礎(chǔ)版）我公司自主研發(fā)的一款高性價比等離子濺射鍍膜設(shè)備，具有結(jié)構(gòu)緊湊，簡單易用。雙靶等離子濺射鍍膜儀（基礎(chǔ)版）的濺射靶為2英寸的標(biāo)準(zhǔn)尺寸，標(biāo)準(zhǔn)配置2個濺射靶頭，以滿足客戶鍍不同膜的實驗需求。

詳情介紹：

TN-PSP180G-2TA 雙靶等離子濺射鍍膜儀（基礎(chǔ)版）我公司自主研發(fā)的一款高性價比等離子濺射鍍膜設(shè)備，具有結(jié)構(gòu)緊湊，簡單易用，集成度高，設(shè)計感強(qiáng)的優(yōu)勢。等離子濺射靶為2英寸的標(biāo)準(zhǔn)尺寸，標(biāo)準(zhǔn)配置2個濺射靶頭，以滿足客戶鍍不同膜的實驗需求。儀器所配電源為150W直流高壓電源，可用于金屬濺射鍍膜，尤其適合金銀銅等貴金屬的鍍膜。

產(chǎn)品名稱
雙靶等離子濺射鍍膜儀-基礎(chǔ)版

產(chǎn)品型號
TN-PSP180G-2TA

主要特點(diǎn)

自主研發(fā)、高性價比

具有結(jié)構(gòu)緊湊，簡單操作

兩只2英寸標(biāo)準(zhǔn)尺寸等離子濺射靶，

150W直流高壓電源，金屬濺射鍍膜

技術(shù)參數(shù)

1、樣品臺：尺寸φ100mm；到靶面的距離20~35mm可調(diào)

2、直流濺射頭：數(shù)量2” ×2

3、真空腔體：尺寸：φ180mm × 210mm、材料高純石英、全向透明、頂蓋拆卸式

4、真空系統(tǒng)：雙極旋片真空泵；抽氣速率：旋片泵：1.1L/S；極限真空：≥0.1Pa
抽氣/排氣接口：KF16；真空測量：電阻規(guī)；

5、濺射電源配置：直流電源 ×1； max輸出功率:150W,濺射電壓1200V,*大濺射電流50mA

產(chǎn)品規(guī)格
尺寸：500mm ×320mm × 470mm；重量：30kg；供電電壓：AC220V,50Hz；功率1500W

1.鍍膜儀配有通氣接口，可通入保護(hù)性氣體，若客戶需要通入混合氣體，聯(lián)系工作人員自行配置高精度質(zhì)量流量計以滿足實驗需要。

2.本鍍膜儀標(biāo)配為雙極旋片真空泵，其具有體積小，抽真空快，操作簡單的優(yōu)勢，若客戶有進(jìn)一步提升真空度的需要，聯(lián)系技術(shù)人員選配分子泵組組成高真空系統(tǒng)。

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產(chǎn)品名稱	雙靶等離子濺射鍍膜儀-基礎(chǔ)版
產(chǎn)品型號	TN-PSP180G-2TA
主要特點(diǎn)	自主研發(fā)、高性價比具有結(jié)構(gòu)緊湊，簡單操作兩只2英寸標(biāo)準(zhǔn)尺寸等離子濺射靶， 150W直流高壓電源，金屬濺射鍍膜
技術(shù)參數(shù)	1、樣品臺：尺寸φ100mm；到靶面的距離20~35mm可調(diào) 2、直流濺射頭：數(shù)量2” ×2 3、真空腔體：尺寸：φ180mm × 210mm、材料高純石英、全向透明、頂蓋拆卸式 4、真空系統(tǒng)：雙極旋片真空泵；抽氣速率：旋片泵：1.1L/S；極限真空：≥0.1Pa 抽氣/排氣接口：KF16；真空測量：電阻規(guī)； 5、濺射電源配置：直流電源 ×1； max輸出功率:150W,濺射電壓1200V,*大濺射電流50mA
產(chǎn)品規(guī)格	尺寸：500mm ×320mm × 470mm；重量：30kg；供電電壓：AC220V,50Hz；功率1500W

產(chǎn)品名稱：雙靶等離子濺射鍍膜儀（基礎(chǔ)版）