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近距離有機(jī)物蒸發(fā)鍍膜爐是一種雙加熱區(qū)快速熱處理爐，具有11"外徑的石英管。它是專為PVD或CSS(近距離升華)薄膜涂層3英寸直徑或2"×2"。近距離蒸發(fā)鍍膜爐采用兩組鹵素加熱器(頂部和底部)，zui大加熱速率20oC/s。兩個(gè)30段精密溫度控制器內(nèi)置，精度為+/-1oC。包括RS485端口和控制軟件，允許通過PC操作爐子和溫度曲線記錄。它是研究新一代太陽能電池薄膜的主要工具，如CdTe、硫化物和鈣鈦礦太陽能電池。
近距離蒸發(fā)鍍膜爐產(chǎn)品特點(diǎn)：
1、為了減小熱輻射和達(dá)到快速冷卻的效果，加熱元件被嵌在水冷裝置上。
2、緊貼頂部加熱元件上裝有一氮化鋁基片（Φ76mm×0.5mm），使得樣品基片上的溫度更加均勻。
3、3″的石墨坩堝可放于底部加熱元件上，用于盛放蒸發(fā)料。
4、真空法蘭通過兩個(gè)硅膠O型圈進(jìn)行密封，通過機(jī)械泵其腔內(nèi)真空度可達(dá)10-2torr，通過分子泵真空度可達(dá)10-5torr。
5、兩個(gè)真空法蘭都可以通過手動(dòng)操作進(jìn)行上下移動(dòng)。
6、一個(gè)數(shù)字式真空顯示計(jì)安裝在法蘭頂部，可以準(zhǔn)確測(cè)量腔內(nèi)真空度。
近距離蒸發(fā)鍍膜爐技術(shù)規(guī)格：
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爐體結(jié)構(gòu)和真空室 |
? 雙加熱器，兩個(gè)溫度控制器，雙通道氣體流量計(jì)集成在移動(dòng)鋁合金框架中 ? 腔室由高純度熔融石英管制成 ? 石英管尺寸：11”O(jiān)D / 10.8”ID×9”H ? 真空法蘭由316不銹鋼制成 ? 外形尺寸：850（長(zhǎng)）×745（寬）×1615（高）mm |
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真空法蘭 |
? 帶有一個(gè)KFD-25真空端口和兩個(gè)氣體出口（需要1/4"管）的頂部法蘭可以手動(dòng)上下滑動(dòng)，輕松裝卸基板和蒸發(fā)材料 ? 底部法蘭有一個(gè)KFD-25真空口，帶兩個(gè)進(jìn)氣口（需要1/4"管）和針閥 ? 法蘭由雙硅膠O形圈密封，可通過機(jī)械泵實(shí)現(xiàn)10E-2 Torr的真空壓力，通過分子泵實(shí)現(xiàn)10E-5 Torr（不包括真空泵，請(qǐng)單獨(dú)訂購） ? 精密防腐數(shù)字真空計(jì)是標(biāo)準(zhǔn)包裝 |
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氣體流量計(jì) |
控制面板上安裝了兩個(gè)浮子表，測(cè)量范圍為： ? 16-160 mL / m ? 400 - 4000 mL / m（用于清洗目的） |
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加熱器和樣品架 |
? 兩個(gè)短波紅外燈作為加熱元件，用于快速加熱。 ? 兩個(gè)加熱器之間的距離可在10 - 50 mm之間調(diào)節(jié) ? 加熱器由不銹鋼制成，帶有水冷夾套，可減少熱輻射并實(shí)現(xiàn)快速冷卻 ? 3"圓形晶圓支架內(nèi)置頂部加熱器，可裝載基板 ? 包括一個(gè)高導(dǎo)熱AlN板（3”直徑×0.5mm厚），它應(yīng)放在基板的背面，使其均勻加熱 |
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溫度控制器 |
? 兩個(gè)精密數(shù)字溫度控制器，30段可編程，可獨(dú)立控制頂部和底部加熱器 ? 每個(gè)控制器都具有PID自動(dòng)調(diào)諧功能，以保護(hù)加熱器免受過沖和報(bào)警功能，以避免過熱和熱電偶斷開 ? 安裝PC通信接口和軟件記錄溫度曲線 |
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工作溫度 |
每個(gè)加熱器的zui高溫度：<=650℃ 兩個(gè)加熱器之間的zui大溫差：<=300℃取決于兩個(gè)加熱器之間的間距： ? 間距30mm zui大。溫差：315℃加熱底部 ? 間距40mm zui大。溫差：350℃加熱底部 ? 間距50mm zui大。溫差：僅在加熱底部395℃ |
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加熱和冷卻速度 |
? 加熱：<8oC/ s（僅加熱單個(gè)加熱器） ? 冷卻：<10oC/ s（600 - 100oC）Max. |
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熱電偶 |
兩個(gè)K型熱電偶（外露）分別安裝在頂部和底部加熱器上 |
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工作電壓 |
208 - 240VAC，單相，20A空氣斷路器 |
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電力需求 |
總計(jì)2200W（每個(gè)加熱器1100W） |
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保證 |
一年限制終身支持（石英管和加熱燈等消耗部件不在保修范圍內(nèi)） |
