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鍍膜儀具有兩路高精度質(zhì)量流量計，客戶若另有需求可以定制至多四路質(zhì)量流量計的氣路，以滿足復(fù)雜的氣體環(huán)境構(gòu)建需求；儀器標(biāo)配先進的渦輪分子泵組，極限真空可達1.0E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制，可以實現(xiàn)在不關(guān)泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產(chǎn)品可以選配一體機工控電腦對系統(tǒng)進行控制，在電腦程序上可以實現(xiàn)真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數(shù)功能，可以進一步提高您的實驗效率。
雙靶磁控濺射鍍膜儀適用范圍：
雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設(shè)備。
技術(shù)參數(shù)：
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產(chǎn)品名稱 |
雙靶磁控濺射儀 |
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濺射電源 |
安裝有兩個直流電源 直流（DC）電源：500W |
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真空腔體 |
真空腔體：300 mm Dia x 300 mm h，采用不銹鋼制作 觀察窗口： 100 mm diameter 腔體打開方式采用上頂開，使得換靶更加容易 |
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磁控濺射頭 |
儀器中安裝有 2 個磁控濺射頭，而且都帶有水冷夾層，可通入冷卻水 對靶材降溫 兩個濺射頭與直流電源相連接，主要濺射導(dǎo)電性靶材 |
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載樣臺 |
載樣臺尺寸：140mm dia.（*大可放置 4"的基底） 載樣臺可以旋轉(zhuǎn)，其速度為：1 - 20 rpm （可調(diào)） 載樣臺*高可加熱溫度為 500℃，控溫精度為+/- 1.0 °C |
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氣體流量控制器 |
儀器內(nèi)部安裝有 2 個質(zhì)量流量計 量程為：0-200sccm |
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真空泵 |
配有一套分子泵系統(tǒng),采用一鍵式操作 80L/S |
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水冷系統(tǒng) |
16L/min. |
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電壓 |
220V 50HZ |
